浅析TSMC和FinFET工艺技术的Mentor解决方案

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Mentor Calibre nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS ) Platform 取得 TSMC 12nm FinFET Compact Technology (12FFC) 和最新版别 7nm FinFET Plus 工艺的认证。Nitro-SoCTM 布局和布线体系也经过了认证,可以支撑 TSMC 的 12FFC 工艺技能。

TSMC 规划根底架构营销部高档总监 Suk Lee 说道: TSMC 很侥幸与 Mentor 打开密切协作,Mentor 为东西流程供给了更多功用,以便支撑我们的全新 12nm 和 7nm FinFET Plus 工艺,然后持续添加其对 TSMC 生态体系的价值。多年以来,Mentor 一向都是我们的战略协作伙伴,西门子许诺持续在 Mentor 的电子规划自动化 (EDA) 技能领域进行出资,我们也希望协助两边的一起客户向商场推出愈加令人惊叹的全新 IC 立异产品。

适用于 TSMC 12nm 和 7nm FinFET Plus 的 Mentor Calibre nmPlatform Mentor 针对 TSMC最新版别的 12nm 和 7nm FinFET Plus 工艺,增强了 Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 东西的功用。Mentor 与 TSMC 携手协作,不只保证恰当的覆盖率,还优化了规划套件的运转速度。此外,TSMC 和 Mentor 还打开了协作,以便两边的一起客户可以了解 Calibre 规划规矩查看 (DRC) 和多重曝光软件方面的极紫外 (EUV) 光刻要求。

Calibre xACT 寄生参数提取东西也经过了 TSMC 的 12nm v1.0 和最新版别 7nm FinFET Plus 的认证,达到了必需的精确度要求。

不只 Calibre YieldEnhancer 东西取得了 TSMC 的 12nm 和 7nm FinFET Plus 工艺的认证,Mentor 和 TSMC 还联手供给了增强运用模型,旨在优化填充运转时刻,经过工程改变指令填充 (ECO Fill) 来最大程度地削减形状移除,运用 随时填充 办法保证一切层之间的一致性。

Calibre PERC 牢靠性渠道是适用于 IP 和全芯片牢靠性分析的验证处理方案。关于当今杂乱密布的芯片规划而言,点对点和电流密度牢靠性查看是至关重要的,但要在大型 12nm 和 7nm FinFET Plus 规划上完结这些检测,有必要具有可扩展性。TSMC 和 Mentor 一起协作,完成了 Calibre PERC 处理方案,充分利用全新的多 CPU 运转功用,让一起客户可以更快地发现和处理他们规划中的全芯片牢靠性问题。

适用于 TSMC 12nm 和 7nm FinFET Plus 的 Mentor AFS 渠道 AFS 渠道,包含 AFS Mega 电路仿真器,取得了 TSMC 的 12nm 和 TSMC 7nm FinFET Plus 工艺的认证。AFS 渠道支撑面向移动和 HPC 运用的 TSMC 规划渠道的一切必需功用。全球抢先的半导体公司的模仿、混合信号和射频 (RF) 规划团队均运用 AFS 渠道对选用最新 TSMC 技能的芯片进行验证,并从中大获裨益。

适用于 TSMC 12nm 的 Mentor Nitro-SoC Mentor 的 Nitro-SoCTM 布局布线体系取得了 TSMC 的 12nm 工艺的认证。除了支撑 12nm 工艺规矩之外,Mentor 还增强了 Nitro-SoC 的内核引擎,以满意这种高密度、高能效工艺的全新标准单元架构要求和规划规矩。这使得 Mentor 可以为 12nm 节点供给数字施行流程。

Mentor 副总裁兼 Design to Silicon 事业部总经理 Joe Sawicki 说道: Mentor 十分侥幸可以成为 TSMC 生态体系的重要组成部分。本年,TSMC 和 Mentor 联手供给了很多处理方案,持续为一起客户供给多种规划办法,以促进移动、高性能核算、轿车、物联网、可穿戴设备商场的 IC 立异。

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